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平成26年度ソフトマター中性子散乱研究会

2015-3-12 (木) 10:00 - 16:45

CROSS

平成26年度ソフトマター中性子散乱研究会

斜入射小角X線散乱(GISAXS)を使ったソフトマター薄膜の研究は、SPring-8などを利用して非常に多く行われている。例えば、SPring-8のBL03XUでは、フロンティアソフトマター開発産学連合体(FSBL)による産学連携を通して、新しい研究基盤が形成されつつある。そこで、本研究会では、このFSBLによるGISAXSの研究を中性子利用へと拡げることでGISAXS/GISANSを用いたソフトマター薄膜研究への産業利用基盤の構築を目的とする。

開催日時

2015年3月12日(木) 10:00~16:45

場所

研究社英語センター 地下2階 大会議室
〒162-0825 新宿区神楽坂1-2
Tel: 03-3269-4331

JR中央・総武線飯田橋駅西口徒歩約3分
東京メトロ南北線・有楽町線飯田橋駅B2a、B3出口徒歩約7分

参加費

参加費は無料ですが、資料代として¥5,000いただきます。
なお、中性子産業利用推進協議会の会員の方と大学、研究機関の方は無料です。それ以外の方は事務局までご相談ください。
資料代は当日徴収いたします。

協議会参加の企業・団体については中性子産業利用推進協議会のホームページ でご確認ください。

申込方法

下記の内容をご記入のうえ、メールでお申し込みください。
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 (1) お名前
 (2) ご所属
 (3) ご連絡先 (電話番号、メールアドレス)
 (4) 交流会に  参加する / 参加しない
*交流会への参加を当日キャンセルされた場合、会費をいただきますのでご了承ください。
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【申込み、問い合わせ先】
中性子産業利用推進協議会
事務局 桐原由美子
Email: info@j-neutron.com
Tel: 029-352-3934

交流会

神楽坂の「ラ・カシェット」で交流会を開催します。
施設側とユーザーのざっくばらんな意見の交換の場になります。是非ご参加ください。
参加希望者は研究会の参加申し込み時に登録してください。当日も受け付けます。
会費は当日いただきます。

会費: ¥3,000
時間: 17:10~19:10
会場: 神楽坂 ラ・カシェット
〒162-0825 東京都新宿区神楽坂1-10 三経第22 ビル3F
Tel: 03-3513-0823

テーマ

GISAXSとGISANSおよびSANSの産業利用に向けたプラットホームの構築

プログラム

10:00 – 10:05 開会挨拶 主査
金谷利治
(京都大学)
10:05 – 10:20 J-PARC/MLFの概要と中性子の産業利用J-PARC/MLFと茨城県BLの現状、J-PARC/MLFにおける産業利用の状況、2014Bならびに2015Aにおける課題採択結果、ならびに、産業利用成果などを紹介する。 林 眞琴(茨城県)
【チュートリアル】
10:20 – 10:50 SPring-8BL03XUにおけるGISAXSの現状とGISANSへの期待SPring-8のBL03XUにソフトマター薄膜専用のハッチが建設されたことからも分かるように、GISAXSはソフトマター構造研究に必要不可欠なツールとなってきている。特に、BL03XUの光源は、高輝度・低発散光も特徴としていることから、これを利活用することで、新たな研究領域や産業利用を構築することも重要なテーマである。そこで本講演では、静的なGISWAXS測定だけでなく、高度化測定手法としてのGIUSAXS、高速時分割GISAXS,GISAXS-CT法などの取り組みについて紹介するとともに、GISANSへの期待について述べる。 小川紘樹
(京都大学)
10:50 – 11:30 高分子表面・界面・薄膜のキャラクタリゼーションと視斜角入射X線・中性子散乱への期待表面や界面のエネルギー状態はその内部と比較して異なっている。このため、表面や界面における高分子の凝集状態およびダイナミクスはバルクのそれらとは著しく異なっている。
また、膜厚が分子鎖の空間的広がり程度の超薄膜では表面や界面の効果が顕著となり、膜全体の構造と物性を変化させる。本講演では、高分子界面の構造・物性を選択的に評価する現状の方法論を実験結果を交えながら紹介するとともに、今後の展望についても述べる。
田中敬二
(九州大学)
11:30 – 12:00 GISAXS/GISANによるソフトマターの構造解析薄膜におけるソフトマターの構造形成は、表面自由エネルギーにより大きな影響を受けるため、バルクとは大きく異なった構造を持つ。本講演では、ブロックコポリマー薄膜の構造形成を中心として、ソフトマター薄膜の構造形成過程をGI-SAXSによりその場観察した結果に基づき、界面がどのように構造形成に影響を与えるのかについて紹介する。 竹中幹人
(京都大学)
12:00 – 13:00 昼食  
【実験装置】
13:00 – 13:30 BL20「iMATERIA」における小角散乱機能茨城県材料構造解析装置iMATERIAは小角散乱機能も有する。現在、入射側の4象限スリットや試料ホルダー,ダイレクトビームモニターなどを整備するとともに、解析ソフトの開発を進めている。昨年11月にはユーザーの実験も4件実施できる段階に来た。本講演では、iMATERIAの小角散乱機能の整備状況について紹介する。 小泉 智
(茨城大学)
13:30 – 14:00 J-PARC/MLFBL17偏極中性子反射率計「写楽」の現状大強度パルス中性子源J-PARC/MLFのBL17偏極中性子反射率計「写楽」は試料垂直配置型の反射率計で、自由界面を除いたあらゆる界面を測定対象とした装置である。これまでは深さ方向の構造解析を中心にQz<5nm-1、反射率でR>10-7までの領域の測定に利用されてきた。今年度から面内構造解析のために2次元検出器の調整と試用を始めており、近いうちに非鏡面散乱やGISANSなどの測定が行えるように準備を進めている。本講演では、このBL17「写楽」反射率計についての現状を紹介する。 山崎 大
(J-PARCセンター)
【産業応用】
14:00 – 14:30 GISAXSによる高分子フィルムのその場評価技術プロセス設計のためには、プロセス中の材料の構造をその場で観察することが重要である。そこで、斜入射小角X線散乱法を用いて高分子フィルムの塗工乾燥過程、および一軸延伸過程における構造変化のその場観察技術を構築している。アクリル系ブロックポリマーの乾燥過程の相分離構造の発展と、ポリビニルアルコールフィルムの延伸過程での3次元構造変化を観察した。前者では成分間での選択的な溶媒蒸発、後者ではミクロフィブリル化がおこる過程を観察することができた。 宮﨑 司
(日東電工)
14:30 – 15:00 両親媒性高分子の膨潤過程での秩序構造形成評価一部の両親媒性高分子は、水中でベシクルと呼ばれる小胞を形成し、高分子ベシクルは、分子デリバリーなどへの応用が期待されている。ベシクル作成手法の一つに薄膜法と呼ばれる手法がある。薄膜法では、両親媒性高分子を基板上にコートし薄膜を形成したのち、水中に浸漬してベシクルを形成させる。薄膜法におけるベシクル形成機構を明らかにすることを目的に、モデル的な水蒸気フロー環境において、両親媒性高分子薄膜の吸水・秩序構造形成過程を評価した結果について紹介する。 鎌田洋平
(クラレ)
15:00 – 15:10 休憩  
15:15 – 15:45 GISAXSによるフィラー含有ポリマーの成膜過程の評価 小池淳一郎(DIC)
15:45 – 16:15 SANS/SAXSによるフェノール樹脂の構造解析熱硬化性樹脂であるフェノール樹脂は、1907年に世界で初めて発明された合成樹脂である。
樹脂の諸物性は架橋不均一性によって支配されていると考えられているが、架橋ネットワーク構造については現在においても明らかとなっていないのが現状である。その要因として、熱硬化反応によって不溶不融となった樹脂は構造解析が困難であり、有効な構造解析手法が未だ確立されていないことが挙げられる。本講演では、樹脂の架橋不均一性解明のため、X線散乱および中性子散乱を用いた樹脂の構造解析手法開発について検討した結果を紹介する。
和泉篤士
(住友ベークライト)
16:15 – 16:45 有機半導体薄膜のGI-SAXSによるナノ構造解析(仮題)有機薄膜太陽電池を始めとする有機半導体薄膜は、有機材料の可溶性を利用した塗布プロセスにより、低コストで、環境に対する負荷が小さいエネルギー材料として世界各国で期待を集めている。有機半導体薄膜の光電特性は、有機薄膜の高次構造に依存することが知られており、その製造にあたっては薄膜形成と薄膜構造の制御が重要である。本講演では、有機半導体薄膜のナノ構造について、放射光を利用したGI-SAXS/WAXS測定を中心に解析した結果と今後の展望について報告する。 小島優子(MCHC)
16:45 – 16:50 終了挨拶  

主催

中性子産業利用推進協議会
茨城県中性子利用促進研究会
総合科学研究機構 東海事業センター (CROSS東海)
J-PARC/MLF利用者懇談会
フロンティアソフトマター開発産学連合ビームライン

詳細

日付:
2015-3-12 (木)
時間:
10:00 - 16:45
イベントカテゴリー:

主催者

中性子産業利用推進協議会
茨城県中性子利用促進研究会
一般財団法人 総合科学研究機構(CROSS)中性子科学センター
J-PARC MLF利用者懇談会
フロンティアソフトマター開発産学連合ビームライン

会場

研究社英語センター大会議室
Japan 〒162-0825 東京都
新宿区, 神楽坂1-2
+ Google マップ
電話番号:
03-3269-4331
Web サイト:
http://www.kenkyusha.co.jp/modules/11_meetingroom/index.php?content_id=1