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平成28年度薄膜・界面研究会
2016-9-28 (水) 10:00 - 17:00
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平成28年度薄膜・界面研究会
テーマ「中性子反射率を用いた材料表面・界面・超薄膜の精密構造解析」
エレクトロニクス、医薬・バイオなど、あらゆる分野で使用されている材料の更なる高機能化には、バルク構造や物性の制御に加え、表面・界面の制御が重要です。本研究会では、材料表面・界面・超薄膜の構造解析に威力を発揮する中性子反射率測定法に着目し、その原理から応用事例までを第一線で活躍されている研究者・技術者に講演していただき、活発な議論を行います。
エレクトロニクス、医薬・バイオなど、あらゆる分野で使用されている材料の更なる高機能化には、バルク構造や物性の制御に加え、表面・界面の制御が重要です。本研究会では、材料表面・界面・超薄膜の構造解析に威力を発揮する中性子反射率測定法に着目し、その原理から応用事例までを第一線で活躍されている研究者・技術者に講演していただき、活発な議論を行います。
開催日時
平成28年9月28日（水）10:00-17:00
会場
研究社英語センター大会議室
〒162-0825
新宿区神楽坂1-2 TEL 03-3269-4331
http://www.kenkyusha.co.jp/modules/11_meetingroom/index.php?content_id=1
参加申込み
無料。ただし資料代として5,000円いただきます。なお、中性子産業利用推進協議会の会員の皆様と大学、研究機関の方は無料です。それ以外の方は事務局までご相談ください。資料代は当日徴収させていただきます。
主催
中性子産業利用推進協議会
茨城県中性子利用促進研究会
総合科学研究機構中性子科学センター(CROSS東海)
協賛
J-PARC/MLF利用者懇談会